Poderoso módulo laser acoplado a fibra UV de 405nm 20w 20w para equipamento de litografia

Este poderoso módulo de laser acoplado de fibra violeta 105um 405nm 20W é um componente central de nível profissional projetado exclusivamente para equipamentos de litografia, integrando a característica de fóton de alta energia do laser violeta 405nm, saída de alta potência de 20W e transmissão de acoplamento de fibra de precisão de 105μm. Ele fornece energia laser estável e focada para exposição fotorresistente e micropadrões, tornando-se uma parte fundamental em sistemas de litografia semicondutores, PCB e microeletrônicos - garantindo processamento de litografia de alta resolução e alta eficiência.

Principais vantagens técnicas para equipamentos de litografia

- Otimização de litografia de comprimento de onda violeta de 405 nm: 405 nm é o comprimento de onda ideal para fotorresistentes convencionais (tom positivo/negativo), permitindo a absorção eficiente de fótons para desencadear reações fotoquímicas. O laser acoplado a fibra de 405 nm e 20 W suporta resolução de nível submícron no processamento de litografia, superando comprimentos de onda mais longos na renderização de padrões finos - fundamental para fabricação de chips semicondutores e circuitos PCB de alta densidade.

- Alta potência de 20 W para exposição rápida: com saída CW estável, a alta potência de 20 W acelera a velocidade de exposição fotorresistente em 40% em comparação com módulos de 10 W. Ele reduz o tempo de exposição por unidade de área para ≤50ms/cm², atendendo aos requisitos de alto rendimento de equipamentos de litografia produzidos em massa e garantindo distribuição uniforme de energia.

- Transmissão de precisão de acoplamento de fibra de 105μm: Equipado com fibra de sílica com diâmetro de núcleo de 105μm (abertura numérica NA = 0,22, eficiência de acoplamento ≥85%), transmite energia do laser com perda mínima. O pequeno núcleo da fibra garante um ponto de feixe focado para um padrão fotorresistente preciso, e sua flexibilidade permite o alinhamento com o caminho óptico do equipamento de litografia, alcançando áreas de exposição estreitas ou complexas.

- Estabilidade e confiabilidade de nível litográfico: adota matriz de laser semicondutor de alta potência e sistema de resfriamento ativo (resfriamento de água + dissipador de calor), mantendo operação estável em 20 ℃-25 ℃ (temperatura do processo de litografia). Ele suporta exposição contínua 24 horas por dia, 7 dias por semana (vida útil >1.000 horas) com desvio de energia ≤0,5%/1.000 horas — evitando distorção do padrão litográfico causada por flutuações de energia.